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Microtrac纳米粒度及Zeta电位分析仪
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美国
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仪器简介:

纳米粒度测量——**动态光背散射技术

随着颗粒粒径的减小,例如分子级别的大小,颗粒对光的散射效率急剧降低,使得经典动态光散射技术的自相关检测(PCS)变得更加不确定。40多年来,Microtrac公司一直致力于激光散射技术在颗粒粒度测量中的应用。作为行业的先锋,早在1990年,超细颗粒分析仪器 UPA(Ultrafine Particle Analyzer)研发成功,**引入由于颗粒在悬浮体系中的布朗运动而产生频率变化的能谱概念,快速准确地得到被测体系的纳米粒度分布。2001年,利用背散射(Back-scattered)和异相多谱勒频移(Heterodyne Doppler Frequency Shifts)技术,结合动态光散射理论和先进的数学处理模型,NPA150/250将分析范围延伸至0.3nm-10μm,样品浓度更可高达百分之四十,基本实现样品的原位检测。异相多普勒频移技术采用可控参考稳定频率,直接比照因颗粒的布朗运动而产生的频率漂移,综合考虑被测体系的实时温度和粘度,较之于传统的自相关技术,信号强度高出几个数量级。另外,新型“Y”型梯度光纤探针的使用,实现了对样品的直接测量,极大的减少了背景噪音,提高了仪器的分辨率。

Zeta电位测量:

美国麦奇克有限公司(Microtrac Inc.)以其在激光衍射/散射技术和颗粒表征方面的独到见解,经过多年的市场调研和潜心研究,开发出**一代Nanotrac wave II微电场分析技术,融纳米颗粒粒度分布与Zeta电位测量于一体,无需传统的比色皿,一次进样即可得到准确的粒度分布和Zeta电位分析数据。与传统的Zeta电位分析技术相比,Nanotrac wave II采用先进的"Y"型光纤探针光路设计,配置膜电极产生微电场,操作简单,测量迅速,无需精确定位由于电泳和电滲等效应导致的静止层,无需外加大功率电场,无需更换分别用于测量粒度和Zeta电位的样品池,完全消除由于空间位阻(不同光学元器件间的传输损失,比色皿器壁的折射和污染,比色皿位置的差异,分散介质的影响,颗粒间多重散射等)带来的光学信号的损失,结果准确可靠,重现性好。

技术参数:

粒度分析范围: 0.3nm-10μm
重现性: 误差≤1%
Zeta电位测量范围: -200mV~200mV
电导率: 0-200ms/cm
浓度范围:100ppb-40%w/v
检测角度:180°
分析时间: 30-120秒
准确性: 全量程米氏理论及非球形颗粒校正因子
测量精度: 无需预选,依据实际测量结果,自动生成单峰/多峰分布结果
理论设计温度: 0-90℃,可以进行程序升温或降温
兼容性:水相和有机相
测量原理: 粒度测量:动态光背散射技术和全量程米氏理论处理

Zeta电位测量:膜电极设计与“Y”型探头形成微电场测量电泳迁移率

分子量测量:水力直径或德拜曲线

光学系统: 5mW780nm半导体固定位置激光器,通过梯度步进光纤直接照射样品,在固定位置用硅光二极管接受背散射光信号,无需校正光路
软件系统: 先进的Microtrac FLEX软件提供强大的数据处理能力,包括图形,数据输出/输入,个性化输出报告,及各种文字处理功能,如PDF格式输出, Internet共享数据,Microsoft Access格式(OLE)等。体积,数量,面积及光强分布,包括积分/微分百分比和其他分析统计数据。数据的完整性符合21 CFR PART 11安全要求,包括口令保护,电子签名和指定授权等。
外部环境: 电源要求:90-240VAC,5A,50/60Hz

环境要求:温度,10-35°C

国际标准 符合ISO13321,ISO13099-2:2012 和 ISO22412:2008

主要特点:

﹡ 采用**的动态光散射技术,引入能普概念代替传统光子相关光谱法

﹡ **的:“Y”型光纤光路系统,通过蓝宝石测量窗口,直接测量悬浮体系中的颗粒粒度分布,在加载电流的情况下,与膜电极对应产生微电场,测量同一体系的Zeta电位,避免样品交叉污染与浓度变化。

﹡ **的异相多谱勒频移技术,较之传统的方法,获得光信号强度高出几个数量级,提高分析结果的可靠性。

﹡ **的可控参比方法(CRM),能精细分析多谱勒频移产生的能谱,确保分析的灵敏度。

﹡ 超短的颗粒在悬浮液中的散射光程设计,减少了多重散射现象的干扰,保证高浓度溶液中纳米颗粒测试的准确性。

﹡ **的快速傅利叶变换算法(FFT,Fast Fourier Transform Algorithm Method),迅速处理检测系统获得的能谱,缩短分析时间。

﹡ **膜电极设计,避免产生热效应,能准确测量颗粒电泳速度。

﹡ 无需比色皿,毛细管电泳池或外加电极池,仅需点击Zeta电位操作键,一分钟内即可得到分析结果

﹡ 消除多种空间位阻对散射光信号的干扰,诸如光路中不同光学元器件间传输的损失,样品池位置不同带来的误差,比色皿器壁的折射与污染,分散介质的影响,多重散射的衰减等,提高灵敏度

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